스티커 베이스&워프

스티커 베이스	경사

인쇄된 모델이 이형 필름이나 모서리 버클에 달라붙습니다.

스크린: 스크린의 경화된 더러운 수지가 릴리스에 영향을 미칩니다.

광원: 일부 광원은 균일한 빛이 아니므로 다양한 영역에서 노출이 일관되지 않을 수 있습니다.

수평 조정: 플랫폼과 화면 수평 조정 네 모서리가 수평이 아니거나 너무 멀리 떨어져 있으므로 다시 수평을 맞춰야 하며 각 모서리에서 끌어온 A4 용지의 저항은 동일합니다.

플랫폼: 성형 플랫폼에 깨끗하지 않은 불순물이 있습니다.성형 플랫폼 자체는 평평하지 않습니다.성형 플랫폼이 마모되었습니다.

슬라이싱: 바닥 노출 시간이 충분하지 않아 모델과 바닥 플레이트의 접착력을 향상시키기 위해 바닥 노출 시간을 늘립니다. 바닥 노출은 일반 노출 시간의 8-10배입니다.리프팅 속도가 너무 빠르면 해제력이 크게 증가합니다.

이형: 이형 필름이 마모되고 노화되어 이형력에 영향을 주어 바닥이 끈적거리는 경우 이형 필름을 교체해 볼 수 있습니다.

모델: 모델이 배치되고 바닥에 배수 구멍이 추가되지 않으며 클램핑 과정에서 진공 당김이 발생하고 클램핑 력과 진공 압력이 분리로 이어집니다.작은 면적에서 큰 면적으로, 조임력 증가, 단층 변형, 진공 당김 등 모형 단면적의 급격한 변화와 단면적의 급격한 변화는 배치 시 최대한 피해야 합니다.